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“小劉，小鄒，你們確實沒有在糊弄我？”林剛把話說完，就感覺自己有些冒失了。

因為影片裡的兩人都是那處航天基地中出來的。

就拿劉成棟而言，他本人是基地的二把手，論起職位級別比林衛國這個光電所的所長還要高上那麼一頭。

林衛國也是仗著年齡大，資歷老，才會喊對方一聲小劉。

至於另一位鄒穎就更不必說了，她是基地中的技術部門負責人，經常會與光電所這樣的兄弟單位進行合作交流，對彼此的情況也非常熟悉。

就拿最先研發投產的虛擬投影腕錶而言，裡面幾項核心技術就是採用了光電所的技術儲備。

從這樣兩個位高職重的“熟人”口中得知了製造原子級別精度光刻機的事情，林衛國的心中就不免起了幾分將信將疑的心思。

沒辦法，誰讓這兩人提到的原子級別的精度實在是太匪夷所思了一點！

說到這，就不得不先簡單提一下晶片製造的整個流程：晶圓加工-氧化-光刻-刻蝕-薄膜沉積-互連-測試-封裝。

而其中最為關鍵的技術步驟，就是光刻。

什麼是光刻？

簡單點理解就是透過特殊波動的光線將設計好的電路圖案“印刷”到晶圓上。

現目前市面上主流的光刻機，按照製程範圍可以分兩種：一種是透過準分子鐳射，將193奈米光源進行折射的DUV光刻機。

DUV光刻機基本只能做到25奈米級別，像著名的因特爾公司就採用雙工作臺的魔改方式將DUV光刻機的精度做到10奈米，但是無法達到10奈米以下。

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